[ARTELLI]

MASQUE ANTI-POUSSIERE SANDY FFP2 NR D/V

art.: 1015267

art.: 1015268

art.: 1002080

Masque buccal blanc en polypropylène, équipé de trois plis et d'une barrette nasale
Masque avec élastique de fixation
Le masque ne protège pas les voies respiratoires, il sert seulement de protection pour les personnes ou les produits à traiter.

art.: 1002007

Masque anti-poussières classe P1 contre les poussières nocives
Masque indéformable grâce à la grille Duramesh sur la partie externe du masque
Fait en sorte que le masque conserve à tout moment sa forme, même en cas de port de longue durée et après avoir plié le masque
Avec des armatures élastiques non réglables
FPN: 4
Convient pour: les processus avec des risques chimiques
Conforme à: EN 149:1991.

art.: 1002014

Masque anti-poussières classe P1 contre les poussières nocives
Masque indéformable grâce à la grille Duramesh sur la partie externe du masque
Fait en sorte que le masque conserve à tout moment sa forme, même en cas de port de longue durée et après avoir plié le masque
La valve dexpiration assure une résistance plus faible à lexpiration et un taux de C02 et d'humidité faibles dans le masque
La valve est également dirigée vers le bas pour éviter que les lunettes ne soient embuées
Avec des armatures élastiques non réglables
FPN: 4
Convient pour: les processus avec des risques chimiques
Conforme à: EN 149:1991.

art.: 1002015

Masque anti-poussières classe P1 contre les poussières nocives
Masque indéformable grâce à la grille Duramesh
Le masque conserve à tout moment sa forme, même en cas de port de longue durée
Intérieur avec coussinet nasal confortable en PE pour plus de confort et une meilleure obturation
La valve dexpiration assure une résistance plus faible à lexpiration et un taux de C02 et d'humidité faibles dans le masque
Avec des armatures élastiques non réglables avec une fermeture
FPN: 4
Convient pour: les processus avec des risques chimiques
Conforme à: EN 149:2001.

art.: 1002018

Masque anti-poussières classe P1 contre les poussières nocives
Masque indéformable grâce à la grille Duramesh
Le masque conserve à tout moment sa forme, même en cas de port de longue durée
La valve dexpiration assure une résistance plus faible à lexpiration et un taux de C02 et d'humidité faibles dans le masque
Intérieur du masque avec coussinet nasal confortable
Doté d'une seule lanière de tête élastique réglable, ce qui fait qu'il est pratiquement impossible de mettre mal le masque
FPN: 4
Convient pour: les processus avec des risques chimiques
Conforme à: EN 149:2001.

art.: 1002022

Masque anti-poussières classe P2 contre les poussières nocives
Masque indéformable grâce à la grille Duramesh sur la partie externe du masque
Fait en sorte que le masque conserve à tout moment sa forme, même en cas de port de longue durée et après avoir plié le masque
Intérieur du masque avec coussinet nasal confortable en PE pour plus de confort et une meilleure obturation
Avec des armatures élastiques non réglables avec une fermeture
FPN: 10
Convient pour: les processus avec des risques chimiques
Conforme à: EN 149:2001.

art.: 1002030

à: EN 149:1991.Masque anti-poussières classe P2 contre les poussières nocives
Masque indéformable grâce à la grille Duramesh sur la partie externe du masque
Fait en sorte que le masque conserve à tout moment sa forme, même en cas de port de longue durée et après avoir plié le masque
La valve dexpiration assure une résistance plus faible à lexpiration et un taux de C02 et d'humidité faibles dans le masque
La valve est également dirigée vers le bas pour éviter que les lunettes ne soient embuées
Avec des armatures élastiques non réglables
FPN: 10
Convient pour: les processus avec des risques chimiques
Conforme

art.: 1002032

Masque anti-poussières classe P2 contre les poussières nocives
Masque indéformable grâce à la grille Duramesh
Le masque conserve à tout moment sa forme, même en cas de port de longue durée
Intérieur du masque avec coussinet nasal confortable en PE pour plus de confort et une meilleure obturation
La valve dexpiration assure une résistance plus faible à lexpiration et un taux de C02 et d'humidité faibles dans le masque
Avec des armatures élastiques non réglables avec une fermeture
Convient pour: les processus avec des risques chimiques
FPN: 10
Conforme à: EN 149:2001.